SZ 2080

Контактная информация
Для получения более подробной информации о продукции, условиях поставки и для оформления заказа, обращайтесь к нашим менеджерам.


SZ 2080

Краткое описание:
SZ 2080 — это эпоксидный негативный фоторезист нового поколения, разработанный для 3D-микропечати и микролитографии с высокой точностью. Обеспечивает превосходное разрешение, низкую усадку и отличные механические свойства после отверждения.

Характеристики:
  • Тип: Негативный эпоксидный фоторезист
  • Применение: Микролитография, 3D-микропечать, лазерная полимеризация
  • Технология: Совместим с двухфотонной полимеризацией (2PP)
  • Толщина слоя: Регулируется в зависимости от параметров нанесения
  • Вязкость: Средняя (оптимизирована для точного нанесения)
  • Длина волны экспонирования: ~780–800 нм (для двухфотонной полимеризации)
  • Механические свойства: Высокая жёсткость и стабильность
  • Химическая стойкость: Устойчив к большинству растворителей и кислот после отверждения
  • Усадка при отверждении: <5%
  • Условия хранения: 4–8°C, в тёмном месте
  • Срок хранения: До 6 месяцев при соблюдении условий

Преимущества:
  • Позволяет создавать 3D-структуры с нанометровой точностью
  • Высокое разрешение и детализация
  • Совместим с лазерными системами двухфотонной полимеризации
  • Обеспечивает стабильные механические и оптические характеристики
  • Минимальная деформация при отверждении

Области применения:
  • Микрооптика и фотонные кристаллы
  • Микрофлюидные и биомедицинские устройства
  • MEMS и NEMS компоненты
  • 3D-прототипирование в нано- и микромасштабе
  • Исследовательские лаборатории, работающие с фотонной и лазерной технологией
Made on
Tilda